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金字塔技巧比赛!三星取消4nm中间工艺,并在5nm之后直接推出3nm GAAFET

自从GF(GF)退出7纳米研发以来,金字塔顶端的先进工艺技术竞争主要在台积电(TSMC),英特尔和三星之间展开。根据最新消息,三星已经重新制定了工艺路线图,并取消了先前用于过渡的4nm工艺。 5nm是FinFET(鳍式场效应晶体管)后,它将直接启动3nm GAAFET(环绕栅晶体管)。至于台积电的3nm,据说第一代是FinFET,总投资高达500亿美元,而风险试生产已经推迟到今年10月。三星的4nm最初定于2021年投入量产,但其真正的身份不过是对5nm的改进而已。对于三星的取消,一方面3nm进展顺利,另一方面,这是市场竞争的需要。如果您可以在台积电之前获得技术难度更高的3nm GAAFET,无疑将为您自己赢得一个相当大的机会。三星此前曾透露,与7nm FinFET相比,3nm芯片可减少50%的能耗并提高30%的性能。另外,最重要的是,三星现任负责人李在勇非常重视芯片代工业务,这一切可能都是他的指示。