藤村：在过去的几年中，口罩的收入一直在增加。在此之前，口罩的收入相当稳定，每年约30亿美元。最近，它们已经超过了40亿美元的水平，并有望继续增长。该LED公司认为，这一增长的部分原因是由于该行业向EUV的过渡。调查中的一个问题询问参与者：“ COVID将对光掩模市场产生什么业务影响？”有人认为这可能是消极的，但大多数人认为这不会产生太大的影响，或者可能产生积极的影响。影响。在最近的eBeam计划中，小组成员评论说，乐观的前景可能是由于半导体行业的需求情况所致。庇护所和家庭环境中的工作正在为电子和半导体行业创造更多的需求和机会。 SE：极紫外（EUV）光刻技术将如何影响掩模收入？藤村：总体而言，三分之二的调查参与者认为这将产生积极的影响。前往EUV时，口罩的数量减少了。这是因为EUV将整个行业带回一个单一的模型。具有多种图案的193nm浸入要求在高级节点处使用更多的掩模。使用EUV，您的掩模较少，但是每个EUV层的掩模成本较高。 SE：几十年来，IC行业一直遵循摩尔定律，该定律指出，芯片中晶体管的密度每18到24个月增加一倍。按照这种节奏，芯片制造商可以在芯片上封装更多和更小的晶体管，但是摩尔定律似乎正在放缓。接下来是什么？藤村：摩尔定律的定义正在改变。不再关注CPU时钟速度的趋势。这并没有太大改变。它按位宽而不是时钟速度扩展。它们中的许多与热性能和其他方面有关。我们有一些理论可以逐步完善。另一方面，如果您查看使用GPU或具有更多CPU内核的大规模并行计算之类的东西，并且如果包含了这些东西，那么可以多快地访问内存（或可以访问多少内存），那么摩尔定律就是积极的。例如，D2S为半导体制造业提供计算系统，因此我们也是技术的消费者。我们进行了大量的超级计算，因此了解计算能力对我们很重要。我们看到的是，我们的计算能力正在以与以前大致相同的速度持续提高。但是，作为程序员，我们必须适应如何使用它。不是您可以使用相同的代码，它不会像20年前那样自动缩放。您必须了解在任何给定的时间点缩放比例是如何不同的。您必须弄清楚如何利用新一代技术，然后再传输代码。因此，它一定更难。您必须弄清楚如何利用新一代技术，然后再传输代码。因此，它一定更难。您必须弄清楚如何利用新一代技术，然后再传输代码。因此，它一定更难。