Jingrui成功购买了ASML XT 1900 Gi光刻机,该光刻机可以开发最大分辨率为28nm的高端光刻胶

经锐股份发布公告:经过多方协商和积极运作,公司已成功购买了ASMLXT1900Gi光刻机。

该光刻机于2021年1月19日到达苏州,并成功进入该公司的高端光刻胶研发实验室,并将很快进行调试。

此外,此ASMLXT1900Gi ArF浸没式光刻机可用于开发最大分辨率为28nm的高端光刻胶。

IT Home获悉,京瑞股份于2020年9月28日晚宣布将进行高端集成电路制造的光刻胶研发项目,并计划通过TestTechnologyPTE.LTD从韩国SKHynix进口ASML光刻设备。

,总价为1102.5万美元(折合7508万元人民币)。

ASMLXT1900Gi光刻机不是先进的工艺光刻机,但它并不容易,并且在这一关键时刻具有重要意义。

以下是官方原文:

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采样电阻一般根据具体线路板的要求,分为插件电阻、贴片电阻。采样电阻,阻值低,精密度高,一般在阻值精密度在±1%以内,更高要求的用途时会采用0.01%精度的电阻。国内工厂生产的大部分都是以康铜、锰铜为材质的插件电阻,但是,广大的用户更需要的是贴片的高精密电阻来实现取样功能,这是为了满足产品小型化产品生产的自动化的要求。能够生产在低温度系数,高精密度,超低阻值上做到满足用户要求电阻的厂商并不多见。

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